SPIE 光掩模技术与极紫外光刻展
SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY
| 展会时间 | 2026年9月8日 至 2026年9月11日 |
|---|---|
| 举办国家 | 美国 |
| 举办城市 | Monterey, CA |
| 展馆名称 | Monterey Conference Center |
| 所属行业 | 工业制造 |
展品范围
SPIE 光掩模技术与极紫外光刻展的展品范围涵盖了光掩模制造、极紫外（EUV）光刻技术及其相关供应链的各个关键环节。具体展品包括但不限于： 1. **光掩模制造设备与材料：** 这包括用于光掩模生产的各种先进设备，如电子束（E-beam）曝光系统、激光掩模写入器、离子束修补设备、等离子刻蚀设备、光刻胶涂布与显影设备、清洗设备等。同时，也展示各种关键材料，如高纯度石英基板、铬膜、莫来石膜、光刻胶（包括EUV光刻胶）、抗反射涂层材料、相位移材料等。 2. **极紫外（EUV）光刻技术与系统：** 展出EUV光刻机及其核心组件，如EUV光源（包括激光等离子体LPP源、放电等离子体DPP源）、EUV反射镜（如多层膜反射镜）、EUV掩模（包括EUV掩模基板、吸收层、EUV光刻胶掩模）、EUV掩模检测与修复设备、EUV光刻胶及其配套化学品等。 3. **计量与检测设备：** 针对光掩模和EUV光刻过程中的各种关键参数进行高精度测量的设备，包括CD-SEM（临界尺寸扫描电子显微镜）、AFM（原子力显微镜）、光学缺陷检测系统、EUV掩模缺陷检测系统、膜厚测量仪、套刻精度测量设备、粒子计数器、EUV反射率和透射率测量设备等。 4. **缺陷管理与良率提升解决方案：** 涵盖了光掩模缺陷识别、分类、分析、修复的软件和硬件解决方案，以及EUV掩模的缺陷控制策略、良率预测与优化工具、数据分析平台等，旨在提高光掩模的制造良率和EUV光刻的生产效率。 5. **数据处理与软件：** 用于光掩模设计、版图优化、计算光刻（Computational Lithography，如OPC、RET）、掩模数据准备（MDP）、缺陷数据管理、工艺仿真与建模等方面的专业软件和算法，为光掩模制造和EUV光刻提供强大的数据支持。 6. **辅助设备与耗材：** 如洁净室设备、气体供应系统、化学品输送系统、掩模存储与搬运系统、静电消除设备、各类精密夹具、过滤器、真空泵等，以及用于光掩模制造和EUV光刻过程中的各种耗材。 7. **研究与开发成果：** 展示最新的学术研究成果、前沿技术原型、未来发展趋势等，包括新材料、新工艺、新设备概念等，为行业未来的创新提供方向。
展会简介
SPIE 光掩模技术与极紫外光刻展（SPIE PHOTOMASK TECHNOLOGY + EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY）是全球半导体制造领域，特别是光刻技术和光掩模产业中极具声望和影响力的年度盛会。该展会及同期会议每年在美国加利福尼亚州的蒙特雷市举行，吸引了来自世界各地的行业专家、研究人员、工程师、供应商和采购商。展会历史悠久，作为SPIE（国际光学工程学会）旗下重要的专业展览之一，它始终站在光刻技术发展的前沿，见证并推动了从传统光刻到极紫外（EUV）光刻等一系列关键技术的演进。展会规模宏大，不仅汇聚了全球顶尖的半导体设备制造商、材料供应商、软件开发商以及相关的服务提供商，还吸引了大量来自集成电路设计、制造、封装测试等产业链各环节的专业观众。其影响力体现在，它不仅是一个展示最新产品和技术的平台，更是一个促进行业交流、分享研究成果、探讨未来发展趋势的重要枢纽。参展群体涵盖了光掩模制造、EUV光刻设备、计量检测、缺陷管理、数据处理等多个领域的关键企业和研究机构。通过高质量的专题演讲、技术研讨会和展览，SPIE光掩模技术与极紫外光刻展为整个半导体产业的创新和进步提供了强大的动力，是了解行业最新动态、拓展商业合作的绝佳机会。